今年年初，中臺灣方面通過《產業(yè)創(chuàng)新條例》第10條之2修正案，亦即俗稱「臺版芯片法」。產創(chuàng)條例10之2子法預計將于明(7)日正式公告實施，明訂研發(fā)費用達60億元、研發(fā)密度（研發(fā)費用占營收凈額之比率）達6%，購置用于先進制程之設備支出達100億元為申請門檻，亦即符合上述條件才有資格申請投抵。
“經濟部”表示，如未符合前述適用條件的公司，仍可申請產創(chuàng)條例第10條研發(fā)投資抵減及第10條之1智能機械投資抵減。
臺灣方面在今年5月1日預告「公司前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展及先進制程設備支出適用投資抵減辦法」（外界稱為產創(chuàng)條例第10條之2子法）草案，明定支出適用范圍、申請程序與期限、審查機制及相關事項。該子法并于5月底預告期滿之后，“經濟部”7月中已函送“財政部”，進行確認細部文字工作。“經濟部”上周已收到“財政部”回函，預計今日于行政公報發(fā)布實施。
“經濟部”與“財政部”協(xié)商后，產創(chuàng)條例10之2子法明訂企業(yè)申請門檻為研發(fā)費用達60億元、研發(fā)密度達6%、購置用于先進制程的設備支出達100億元，且2023年有效稅率為12%，才能適用第10條之2的租稅減免。
有「臺版芯片法」之稱、產創(chuàng)條例第12條之2，將為半導體、電動車、5G等技術創(chuàng)新且居國際供應鏈關鍵地位公司，提供租稅優(yōu)惠。其投資于前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展之支出25%，得抵減當年度應納營利事業(yè)所得稅額；購置先進制程之全新機器或設備，支出金額5%得抵減當年度應納營利事業(yè)所得稅額，且該機器或設備支出不設金額上限。
“經濟部”表示，子法明訂適用條件，系考量產創(chuàng)條例第10條之2之立法意旨、業(yè)界實況，并為使公司持續(xù)保有在全球產業(yè)鏈中的關鍵地位，保持臺灣重要產業(yè)在全世界的競爭優(yōu)勢，進而鼓勵產業(yè)加大力道投入較同業(yè)更高額設備以及研發(fā)支出。“經濟部”呼吁，已接近適用門檻的業(yè)者，更能擴大研發(fā)，以適用租稅優(yōu)惠。
“經濟部”表示，由于產創(chuàng)條例中已訂定適用第10條之2租稅優(yōu)惠的有效稅率為12%，以及未來15%的基礎，因此也可促使未達到此稅率基礎的業(yè)者努力達成，穩(wěn)定稅收。
臺版芯片法總說明
近年來由于國際貿易爭端頻繁與地緣政治風險升高，造成主要國家和地區(qū)開始考慮產業(yè)鏈重組問題。為達成相對應之政策目標，各個國家和地區(qū)政府均開始針對各類前瞻技術與尖端科技產業(yè)設計優(yōu)惠政策。以半導體產業(yè)為例，不論是美國的《芯片與科學法案(CHIPS and Science Act) 》或歐盟的《歐洲芯片法案(European Chips Act) 》，均希望透過各種類型的補貼（包含設立基金、提供低利貸款或租稅抵免等）吸引具有競爭力之產業(yè)參與者于美國或歐盟進行投資，以于美國及歐盟地區(qū)建立完善且具有競爭優(yōu)勢之半導體產業(yè)聚落。
作為全球半導體重鎮(zhèn)，中國臺灣于2023年1月7日三讀通過《產業(yè)創(chuàng)新條例》第10條之2修正案（下稱「產創(chuàng)條例修正案」），以提供租稅抵減之方式，提供符合資格之產業(yè)參與者來臺投資之誘因。依同條例第72條，產創(chuàng)條例修正案施行期間，自2023年1月1日起至2029年12月31日止。
上述產創(chuàng)條例修正案設計之租稅優(yōu)惠類型有二：(1) 「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出」之定率（25% ）投資抵減，及(2)購置用于「先進制程」之機器設備支出之定率（5% ）投資抵減。本文先將欲申請適用此二類租稅優(yōu)惠之法定要件以表格方式整理如下，再分別說明法定要件內容。
一、法定要件中之積極要件
(一) 須為「公司」：與產業(yè)創(chuàng)新條例第10條與第10條之1之規(guī)定不同，目前本次產創(chuàng)條例修正案之投資扣抵僅限「公司組織」申請，有限合伙事業(yè)等非公司組織并不具備申請資格。
(二) 須于「中國臺灣境內」進行技術創(chuàng)新：「中國臺灣境內」之定義須待主管機關于授權子法中明訂。
倘若一總部位于中國臺灣之跨國/地區(qū)企業(yè)欲申請本次產創(chuàng)條例修正案之投資抵減優(yōu)惠，然而其技術創(chuàng)新行為系由該企業(yè)位于美國與臺灣之研發(fā)中心共同進行，則該技術創(chuàng)新行為是否完全不適用本次產創(chuàng)條例修正案之投資抵減優(yōu)惠？或是得依合理比率（例：個別研發(fā)中心之貢獻率）分攤于中國臺灣境內與境外之投資支出，并依分攤后金額計算是否符合投資抵減優(yōu)惠之資格？
(三) 須具有「國際供應鏈關鍵地位」：「國際供應鏈」與「關鍵地位」之定義須待主管機關于授權子法中明訂。
1. 「國際」供應鏈：所謂國際供應鏈，是否僅需該產業(yè)供應鏈中之任一環(huán)節(jié)有他國籍之參與者即符合？另，產業(yè)參與者之國籍認定系依該參與者之設立地認定或依該參與者之最終母公司設立地認定？
2. 「關鍵地位」：本所認為，倘以「維持／創(chuàng)造產業(yè)競爭優(yōu)勢」切入思考，或可借用競爭法之概念，以「不可替代性（質性特征）」與「市占率多寡（量化特征）」作為衡量特定公司是否具有供應鏈關鍵地位之參考標準。然而實務上應如何針對不同產業(yè)特性具體化相關判準，仍有賴主管機關以授權子法明訂。
例：半導體產業(yè)依其產業(yè)特性即可大分為積體電路設計、晶圓制造以及半導體封裝測試三大部分，且此分類之界線于先進積體電路市場亦愈發(fā)不明確（例：晶圓級封裝技術使晶圓制造業(yè)者得以跨入封裝測試市場；系統(tǒng)單芯片概念使封裝測試與積體電路設計產生競合關系）。此種產業(yè)特性，將導致實務上難以操作上揭參考標準決定特定公司是否居于關鍵地位（例：應如何決定市場范圍）。
(四) 于同一課稅年度內之「研究發(fā)展費用」與「研究發(fā)展費用占營業(yè)收入凈額之比率」須達到一定規(guī)模：具體規(guī)模仍待主管機關于授權子法中明訂。惟依修正理由之說明，可知「研究發(fā)展費用」與「營業(yè)收入凈額」均為公司個體綜合損益表之金額。
1. 本款要求之「研究發(fā)展費用」數額，依法條文義并未限制僅能計入「屬前瞻創(chuàng)新」之研究發(fā)展費用，本所認為似得將公司該課稅年度所有帳載「研究發(fā)展費用」均納入計算。
2. 修正后產創(chuàng)條例第10條之2第一項所稱「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出金額」，本所認為依文義可能包含:
(1)符合相關會計準則而予以資本化之發(fā)展支出(Development expenditure) ，及；
(2)費用化之研究發(fā)展費用。
惟目前尚無法確定僅費用化之部分得以作為計算投資抵減之基礎，或資本化與費用化之金額得并計為計算投資抵減之基礎。
(五) 投資之項目需符合定義：公司欲申請本次產創(chuàng)條例修正案投資抵減之研究發(fā)展支出，限于投資于「前瞻創(chuàng)新」之研究發(fā)展支出。而「前瞻創(chuàng)新」之定義須待主管機關于授權子法中明訂。另，公司欲申請本次產創(chuàng)條例修正案投資抵減之資本支出，限于「購置供自行使用」于「先進制程」之機器設備，且購置金額須達「一定規(guī)?！?。而「先進制程」與「一定規(guī)模」之定義亦須待主管機關于授權子法中明訂。
(六)于申請抵減課稅年度之「有效稅率」須達法定下限：2023年為12% 、2024年后為15% （惟2024年得經中央主管機關會同財政部審酌后調整為12 % ）
本款之有效稅率=100% X （應納稅額-境外所得已繳納之可扣抵稅額-大陸地區(qū)來源所得已繳納之可扣抵稅額-適用之投資抵減稅額總額）／全年所得額
二、法定要件中之消極要件
(一)禁止申請同類投資抵減優(yōu)惠：為避免本次產創(chuàng)條例給予過度之租稅優(yōu)惠，故規(guī)定公司一旦申請適用本條之投資抵減優(yōu)惠，即禁止申請其他同類投資抵減優(yōu)惠。
以「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出」之投資抵減為例，倘公司有「屬」前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出與「非屬」前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出，一旦公司就「屬前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出」申請適用定率投資抵減優(yōu)惠，即不得就「非屬」前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出申請適用其他同屬「研究發(fā)展支出」類型之租稅優(yōu)惠。
例：假設A公司X1課稅年度之總研究發(fā)展支出為新臺幣（下同）100億元，其中屬于前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出為15億元，符合產創(chuàng)條例第10條之研究發(fā)展支出共計80億元，符合產創(chuàng)條例第10條之1之研究發(fā)展支出為5億元。一旦A公司申請適用修正后產創(chuàng)條例第10條之2（「前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出定率投資抵減」），則A公司其余85億元之研究發(fā)展支出，即不得依產創(chuàng)條例第10條或第10條之1申請適用對應之投資抵減優(yōu)惠。
(二) 抵減總額不得超過法定上限
1. 「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出」之定率投資抵減，不得超過公司特定課稅年度應納營利事業(yè)所得稅額之30%
例：假設B公司符合產創(chuàng)條例第10條之2之適用要件，本年度扣除研究發(fā)展費用前之所得凈額為100元，「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出（假設無資本化數額）」為x元，營所稅率為20%，有效稅率限制為12%，則以代數公式表達此項限制如下：
x*25%≤[(100-x)*20%-x*25%]*30%
2. 購置用于「先進制程」之機器設備支出之定率投資抵減，不得超過公司特定課稅年度應納營利事業(yè)所得稅額之30%
3. 公司依各該法規(guī)申請適用之投資抵減總額，不得超過其于特定課稅年度應納營利事業(yè)所得稅額之50% ：依修正理由可知，公司于申請本次產創(chuàng)條例修正案之投資抵減優(yōu)惠之課稅年度，如有以往年度申請適用之投資抵減剩余，仍可于該課稅年度合并使用。
(三)三年內無違反環(huán)境保護、勞工或食品安全衛(wèi)生相關法律且情節(jié)重大情事：為免使有重大違反環(huán)保、勞工或食安法令之公司得以享受巨額之租稅優(yōu)惠，故參考同法所設計之其他租稅優(yōu)惠措施納入此消極要件。
除上述適用稅捐優(yōu)惠的要件外，另需注意產創(chuàng)條例修正案關鍵法條定義之變更頻率，與節(jié)能減碳之要求?？剂靠萍歼M步快速、重點產業(yè)更迭不斷，臺灣方面于產創(chuàng)條例修正案三讀時，一并通過附帶決議，要求“經濟部”應每年邀集學者專家及業(yè)者就「居國際供應鏈關鍵地位」、「前瞻創(chuàng)新研發(fā)」、「先進制程設備」等名詞定義及關鍵產業(yè)進行檢討，以利相關租稅優(yōu)惠能夠符合產業(yè)實際需求。且為符合國際節(jié)能減碳、氣候與永續(xù)與綠色轉型之浪潮，臺灣方面亦于附帶決議中要求“經濟部”制定相關政策，評估積極協(xié)助申請產業(yè)創(chuàng)新條例第10條之2租稅優(yōu)惠時，同時提出節(jié)能減碳具體措施，例如降低及優(yōu)化制程設備能源使用、強化制程氣體回收及優(yōu)化制程參數降低溫室氣體排放，以及每年度碳盤查各范疇之資訊公開。
本次產業(yè)創(chuàng)新條例修正案，亦即第10條之2條文三讀通過，對處于前瞻技術與尖端科技產業(yè)中之產業(yè)參與者而言不啻為一利多消息。欲申請本次產創(chuàng)條例修正案租稅優(yōu)惠之公司，應盡早盤點公司之研究發(fā)展支出與先進制程之性質與規(guī)模，以評估公司是否有機會申請本次產創(chuàng)條例修正案之巨額租稅優(yōu)惠。本所稅務專業(yè)小組由具有島內外律師、會計師執(zhí)照之稅務專家所組成，熟悉島內與國際稅法之最新變動趨勢，且與律盟聯合會計師事務所密切合作，對于稅捐稽征實務有深入之了解。如您就本次產創(chuàng)條例修正案有任何疑問，請不吝隨時與本所稅務專業(yè)小組聯系。
半導體行業(yè)觀察 2023-08-07 09:53 發(fā)表于安徽
來源：內容由半導體行業(yè)觀察（ID：icbank）綜合自經濟日報等
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